高纯三氧化钼采用先进的设备,创新的国家发明专利工艺使公司生产的超纯纳米三氧化钼具有以下特点:
1. 高纯三氧化钼纯度高:最高可达99.995%
2. 高纯三氧化钼粒度细:最细可达50nm
3. 高纯三氧化钼含钨低:最低可达100ppm
4. 高纯三氧化钼还原温度低:大幅降低了氢气还原的温度
高纯三氧化钼的应用:高纯三氧化钼广泛用于生产超纯纳米钼粉、各类钼盐、催化剂、电致色膜和气体发生组成材料等领域。
获得高纯三氧化钼的工艺主要有:
等离子物理气相沉积法
以空气等离子处理普通的三氧化钼,利用三氧化钼沸点比大多数杂质低的特点,令其在空气等离子焰中迅速挥发,然后在等离子焰外引入大量冷空气使气态三氧化钼激冷,获得超纯三氧化钼粉末。
离子交换法
将原料粉末溶于聚四氟乙烯容器中加水搅拌,然后以1 L/h的速度向容器中加入浓度为30%的H2O2。所得溶液通过H型阳离子交换剂,将容器中的溶液加热至95 ℃,抽气压力在25 Pa左右保持5小时,浓缩后形成沉淀,即为高纯三氧化钼。
化学净化法
通过多次重结晶,获得高纯钼酸铵,然后煅烧得到高纯三氧化钼。
获得高纯三氧化钼后,采用传统氢还原法和等离子氢还原法均可获得高纯度钼粉。这几种制备技术均有应用的报导,但具体技术思路和细节均未公开。